中および高周波誘導加熱装置の利点

1.最小限の酸化とワークピースの脱炭を伴う高速加熱速度。中程度および高周波誘導加熱の原理が電磁誘導であるため、ワークピース自体内で熱が生成され、インダクタはワークピースと非-接触になります。この加熱方法の温度上昇率は高速であるため、ワークの酸化は非常にわずかであり、プロセスの再現性は優れています。

2。均一な加熱と高温制御精度。誘導加熱は、コアとワークの表面の間の均一な加熱と小さな温度差の要件を簡単に達成できます。温度制御システムを適用すると、温度を正確に制御できます。

3。低エネルギー消費と汚染なし。セラミックチップ抵抗加熱および火炎加熱と比較して、誘導加熱は加熱効率が高く、エネルギー消費量が少なく、汚染のない緑と環境に優しいものであり、古い成長ドライバーを新しいものに置き換えるという中国の国家戦略に適合しています。

4。低暖房コスト。エネルギー利用効率が高いため、誘導加熱の長い-用語の使用コストは、セラミックチップ抵抗加熱の約67％、火炎加熱の45％です。